半導體製程水質監控TOC分析儀

• 可穩定測量 TOC 濃度低於 1 μg/L 的超純水。

• 配備大型彩色觸控面板與精巧機身，操作簡便。

• 採用將紫外燈與樣品流路整合的 Active-Path 結構，實現高效氧化性能。

半導體製造流程包含晶圓製造、薄膜形成、光蝕刻、蝕刻與去光阻等多個階段，而每個階段皆包含清洗步驟。即使是極微量的污染物附著於半導體表面，也可能影響產品品質與良率，因此在清洗過程中有效去除污垢與雜質至關重要。基於此原因，清洗製程中所使用的水質純度極為重要。近年來，隨著半導體朝向更小型化與更高容量發展，必須使用徹底去除有機物及其他雜質的超純清洗水，已成為不可或缺的關鍵條件。